在中国工信部近期公布的最新文件中，出现了一台全新的中国自制 DUV曝光机，公开数据显示该曝光机的分辨率≦65纳米、套刻精度≦8纳米。许多中国网友认为，这台 DUV象征著中国突破了美国的技术封锁，“可以生产8纳米芯片”。
